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主管单位:核工业西南物理研究院
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ISSN 0254-6086 CN 51-1151/TL
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甚高频放电加速纳米硅薄膜沉积速度的机理研究
庄娟, 王德真, 高欣欣, 王艳辉
Study on high growth-rate deposition of nanocrystalline silicon thin film with VHF-PECVD
ZHUANG Juan, WANG De-Zhen, GAO Xin-xin, WANG Yan-hui
核聚变与等离子体物理 . 2009, (
1
): 87 -91 .